化学研磨抛光是将零件用浸渍的方式将微观表面凹凸不平的凸起部位通过化学腐蚀的作用首先溶解消除掉,与原来相比表面凹凸差变小从而使之表面更趋于平滑的过程称之为化学研磨抛光。其表面微观凸起处减薄研磨掉0.01mm左右, 表面的粗糙度提高,能除掉微小毛刺毛边,表面可达镜面程度,ra≤0.05μm,表面被钝化,耐腐蚀性大大提高。其表面平滑性、光泽性、耐蚀性、抗粘附性、美观性、清洁卫生性等极大的提高,处理后的工件表面光滑,细菌污垢等杂质被清除而且不易粘附,同时优于机械抛光表面,而赋予此表面更多的物理化学性能的过程。使用方便成本低,效果超过电解研磨抛光。
表面cr/fe和cro/feo比大于3,达到国际semi技术标准。
